トッパンフォトマスクとは
2025/07/25
トッパンフォトマスクとは？その強みをわかりやすく解説
「トッパンフォトマスク」は、半導体製造で使われるフォトマスクを開発・提供する日本の技術力ある企業でしたが、2024年11月1日から社名を「テクセンドフォトマスク株式会社」に変更しました。ただし、検索上はまだ「トッパンフォトマスク」で調べる人も多いため、本記事ではあえて「トッパンフォトマスク」の名称を中心に紹介します。
もともとは凸版印刷のグループ会社として2022年4月に独立し、半導体用フォトマスクの製造・販売を開始。ここ数年でIBMと共同でEUV（極端紫外線）リソグラフィ向けのフォトマスクを2nm世代に向けて開発するなど、世界の最先端技術に貢献しています。これらにより「トッパンフォトマスク」は外販用フォトマスクのリーディングカンパニーとして着実な成長を続けています。
トッパンフォトマスクが提供する主な製品と技術
半導体用フォトマスク
シリコンウェハーに回路パターンを転写する型として、トッパンフォトマスクは高い精度と品質を誇ります。EUV対応や高NA対応のマスク開発にも取り組んでおり、2nmプロセス世代への対応も進んでいます。
ナノインプリント用モールド
ナノインプリントリソグラフィ（NIL）向けに、微細構造の型を製造。これは従来のリソグラフィ技術では困難な複雑パターンの量産を低コストで可能にする技術です。
シリコンステンシルマスクなどその他用途
フォトマスクに限らず、多層構造や特殊用途向けのステンシルマスクなども取り扱っています。
トッパンフォトマスクの技術を支える協業と展望
IBMとの共同開発
「トッパンフォトマスク」がIBMと組んで進めるEUVフォトマスクの共同研究は、とくに2nm世代の高精度・高解像度リソグラフィで重要です。半導体のさらなる微細化を支える取り組みです。
EVGとのナノインプリント協業
オーストリアのEV Group（EVG）と協力し、NIL向けの型（トッパンフォトマスクの製品）と装置・プロセスをセットで顧客に提供。フォトニクスやAR・VR、車載センサ、医療画像機器など広い用途へ展開しています。
国内外ネットワークの強化
元々凸版印刷グループ内で長年技術を培っており、日本国内に複数拠点、さらに台湾・米国・欧州など世界各地に製造拠点や販売網を持っており、トッパンフォトマスクとしての供給力と信頼性が強みです。
トッパンフォトマスクが検索上位に来る理由とは？
社名変更後も「トッパンフォトマスク」で検索される需要
テクセンドフォトマスクに変わった現在も、検索エンジンでは「トッパンフォトマスク」のキーワードで情報を探す人が多いため、SEO的にも効果的です。
高精細半導体技術と密接に結びつくブランド
EUV、高NA、2nm、NILなど、最新技術に絡むキーワードと組み合わせることで、記事の専門性やトレンド感が高まります。
関連企業・業界キーワードとの相乗効果
たとえば「半導体フォトマスク」「EUV フォトマスク」「ナノインプリント」「テクセンドフォトマスク」などを自然に織り込むことで、検索対象ワードの網羅性が高まり、上位表示されやすくなります。
初心者向けにトッパンフォトマスクを伝えるポイント
フォトマスクとは？ → 半導体の回路パターンを写す「型」。ガラスや石英上に回路が描かれ、これでウェハーに転写する。
なぜ重要？ → 微細な回路を正確に量産するには必須。
トッパンフォトマスクは？ → 日本発、高精度フォトマスクのリーダー企業。EUVやNILなど最先端技術に対応。
まとめ：トッパンフォトマスクの今後と注目点
「トッパンフォトマスク（現・テクセンドフォトマスク）」は、半導体製造におけるフォトマスク技術、特に最先端EUVリソグラフィ対応やナノインプリント用モールド分野で国内外の注目を集めています。
2022年4月の会社設立後、IBMとの2nm向け共同開発（EUVフォトマスク）を開始。
2024年11月1日に社名をテクセンドフォトマスクに変更。
EVGとの協業でフォトニクス製造分野に対応したNIL型サービスを展開。